Oddiy bosimda odatiy plyonka materiallari - bug 'plyonka materiallari ideal ingichka plyonkalarni hosil qilmaydi. Aslida, agar bosim etarlicha kam bo'lmasa (yoki vakuum etarlicha baland emas), yaxshi natijalarga ham erishilmaydi. Masalan, - Bug '-}-}}-}} omonat {}}}- trarda omonat, natijada bu zerikarli emas, lekin hatto kulrang yoki qora ko'rinishi mumkin. Uning mexanik kuchi juda kambag'al va sincap bilan engil cho'tkasi - sochlar soni alyuminiy qatlamiga zarar etkazishi mumkin.
Bug 'tushirilishi quyidagi sabablarga ko'ra ma'lum bir vakuum sharoitida bajarilishi kerak:
1 Gaz molekulalarining issiqlik harakati tufayli ular orasidagi to'qnashuvlar juda tez-tez uchraydi. Shuning uchun, gazli molekulalarning yuqori tezligiga qaramay (sekundiga bir necha yuz metrgacha), ular boshqa molekulalar bilan oldinga siljishlari bilan bir necha bor to'qnashadilar. Molekulasi ketma-ket ikki to'qnashuv o'rtasida molekuladan iborat molekulaga sayohatlar uning erkin yo'lidir va ko'p sonli molekulalarning erkin yo'llarining statistik yo'llari o'rtacha erkin yo'l deb ataladi.
Gaz bosimi birlik hajmidagi molekulalar soniga mutanosib bo'lib, o'rtacha bo'sh yo'l, shuningdek, gaz bosimi bilan mutanosibdir. Vakuum ingichka plyonkani, ya'ni molekulalarning erkin yo'lidan kattaroq bo'lganida, past masofada joylashgan molekulalarning o'rtacha erkin yo'lidan kam deb ataladi, deyiladi, bu yuqori vakuum cho'kmasi deyiladi. Yuqori vakuum cho'kmasida bug'langan atomlar (yoki molekulalar) va qoldiq gaz molekulalari o'rtasidagi to'qnashuvlar ahamiyatsiz, shuning uchun bug 'atomlari substrat tomon to'g'ri chiziqda uchadi. Bu yuqori kinetik energiya bilan substratga olib keladigan substratga etaklab, quyuq kino qatlamini tuzish uchun substratga erishadigan bug'langan atomlarga imkon beradi. Vakuumning past tubida to'qnashuvlar uning atmosferadagi suv bug'ini shakllantirishiga o'xshash - kosmosning shakllanishiga o'xshash - kosmosning shakllanishi bilan bug 'atomlarining hosilini shakllantirishga olib kelishi mumkin.
2. Oliy vakuum darajasi qoldiq gaz bilan ifloslanishni kamaytirishi mumkin. Vakuum pastki qismida vakuum darajasida, vakuum kamerasi juda ko'p miqdordagi qoldiq molekulalar (masalan, kislorod, azot, suv va uglevodlar) va plyonkani mayda tahdid solishi mumkin. Ushbu gazlar o'rtacha erkin yo'llarini qisqartirish, ularning o'rtacha erkin yo'llarini qisqartirish; ular forma yuzasi bilan to'qnashadilar va reaktsiya qilishadi; ular allaqachon shakllangan filmda asta-sekin yo'q qilish; Ular yuqori haroratlarda bug'lanish manbai bilan munosabat bildiradilar, uning xizmatidagi hayotni kamaytiradi; va ular bug'langan plyonkaning yuzasida oksid qatlamini hosil qiladilar.
Shuning uchunVakuum vakuum qoplama mashinasiFilm qatlami qat'iy va ifloslantiruvchi moddalardan xalos bo'lishini va plyonka qatori paltoli plyonkani qoplash uchun bo'lishi kerak.
