1. Vakuum isitish tozalash
Ish qismi normal bosim yoki vakuum ostida isitiladi, chunki tozalash maqsadlariga erishish uchun uchuvchi aralashmalarni bug'lang. Ushbu usulning tozalash ta'siri ishning atrof-muhitning atrof-muhitga, vakuumning uzunligi, isitish vositasi harorati, ifloslantiruvchi moddalar va ish qismining turi bilan bog'liq. Printsipial suv molekulalarini, turli xil uglevodorod molekulalarini iste'mol qilishni targ'ib qilish. Qaytarish kuchayish darajasi haroratga bog'liq. Ultrada - yuqori vakuumda, atom toza sirtni olish uchun issiqlik harorati 450 darajadan yuqori bo'lishi kerak va isitish tozalash usuli ayniqsa samarali. Ammo ba'zida bu usul yon ta'sirga ega. Isitish natijasida ba'zi uglevodorodlar bir vaqtning o'zida katta agregatlarga puflaydi va uglerodli klastqaga parchalanishi mumkin.
2. Ultrabinet nurlanishini tozalash
Ultrabinafsha nurlanishidan foydalaning. Masalan, 15 soat davomida havoning ta'siri toza shisha yuzasini ishlab chiqarishi mumkin. Agar kerakli - preforti bo'lsa, tozalangan sirt ozonni chiqaradigan ultrabinafsha manbaga joylashtirilgan bo'lsa, ozonning mavjudligi tozalash stavkasini yaxshilaydi. Tozalash mexanizmi shundaki, ultrabinafsha nurlanish davrida axloqiy molekulalar hayajonlangan va ajratilgan va ozonning avlodi va ozonning mavjudligi juda faol atom kislorodini ishlab chiqaradi. Axlat ifloslantiruvchi molekulalar va ifloslantiruvchi moddalarning tarqalishi natijasida hosil bo'lgan erkin radikallar nisbatan oddiy va o'zgaruvchan molekulalarga, masalan, H203, CO2, N2 va boshqalarga nisbatan reaktsiya darajasi oshadi.
3. Bo'shatish uchun tozalash
This cleaning method is widely used in the cleaning and degassing of high vacuum and ultra-high vacuum systems, especially in vacuum coating equipment. Issiq simlar yoki elektrodlarni elektron manba sifatida ishlatib, nisbiy sirtni tozalash uchun salbiy his-tuyg'ularni qo'llash, gazni to'kish va gidretarbonlar tomonidan ion bombardimon qilish orqali gazni to'kish va bir nechta uglevodorodlarni olib tashlash kerak. Tozalash effekti elektrod materiali, geometriya va uning sirt bilan bo'lgan munosabatlari, birlik sirtining maydoni va ion energiyasi uchun ionlarga bog'liq va shuning uchun elektr energiyasiga bog'liq. Vakuum kamerasi inertal gaz kamerasiga (odatda armoq) to'ldirilganda, past darajadagi bosimli bosimli bosimli bosimli bosimli bosimli elektrodni tushirish vakuum kamerasini tozalash uchun ishlatilishi mumkin. Ushbu usulda inert gazi ionlashtirilgan va vakuum kamerasining ichki devorini, vakuum kamerasidagi boshqa tarkibiy qismlar, boshqa tarkibiy qismlar. Ba'zi uglevodorodlar tozalangan gazga qo'shilayotgan bo'lsa, yaxshiroq tozalash mumkin. Kislorod ayaniq gazlarni shakllantirish uchun ba'zi uglevodorod oksidlashi mumkinligi sababli, uni vakuum tizimidan chiqarib tashlash mumkin. Zanglamaydigan po'latdan tashqari yuqori vakuum va ultra - yuzidagi nopokliklarning asosiy tarkibiy qismlari yuqori vakuum konteynerlari uglerod va uglevodorodlardir. Oddiy sharoitlarda u uglerod yolg'izlik bilan o'rab olinmaydi. Kimyoviy tozalashdan so'ng, A yoki + 02 aralash gazni oqish uchun tozalash kerak. Yayqaliqni tozalashda, eng muhim parametrlar - bu bo'yoq sirtini va o'simlikning qalinligi, ekish vaqti, elektrod shaklini, elektrod shakli, elektrod shakli, elektrod shaklini tozalash va tozalash uchun ishlatiladigan gaz va boshqalar.
IV. Gaz tozalash
1. Ammiak qizarib ketadi
Azot material yuzasida adsorsorororororororbed bo'lsa, unda adsorbyariya vaqti juda qisqa va hatto u qurilma devorida aprelorbed bo'lsa ham u osonlikcha pompalanadi. Ammiakning bu xususiyatidan foydalanish uchun vakuum tizimini pasaytirish tizimining nasos vaqtini qisqartirishi mumkin. Agar vakuum qoplama mashinasi atmosferaga qo'yishdan oldin quruq azot bilan to'ldirilgan bo'lsa, keyingi nasos tsiklining nasos muddati, bu vakuumli molekulalar vakuumning adsorbizatsiyasi, azotli molekulalar birinchi navbatda, vakuum kamerali devori tomonidan birinchi navbatda. Parrizsiya saytlari avvalgi va azotli molekulalarga to'ldirilganligi sababli, nasos vaqtini qisqartiradigan juda ko'p sonli molekulalar mavjud. Agar tizim diffuziya nasosidan yog 'chayqalishi bilan ifloslangan bo'lsa, ifloslangan tizim, azotni qizdirish orqali tozalanishi mumkin. Odatda, tizimni pishirish va isitish paytida tizim neft ifloslanishini bartaraf etish uchun azot bilan atrot bilan yuvilishi mumkin.
2. Reaktiv gazni yumshatish
Ushbu usul katta Ultra - yuqori zanglamaydigan po'latdan yasalgan vakuum tizimlarini (uglevodorod ifloslanishini olib tashlash) yuqori darajada tozalanishi va odatda vakuum palatalari va vakuum komponentlari yuqori vakuum tizimlari uchun mos keladi. Atom holatida toza sirtni olish uchun kimyoviy tozalash, vakuum pechkasi pishirish, ko'katni tozalash va vakuum tizimi atom energiya pishirish bilan. Yuqoridagi tozalash va decasizatsion usullar va vakuum tizimini o'rnatish paytida ko'pincha ishlatiladi. Vakuum tizimi o'rnatilgandan so'ng (yoki tizim ishlatilayotganidan so'ng), uni ekish qiyin, chunki turli komponentlar allaqachon o'rnatilgan. Tizim (tasodifan) ifloslangan (asosan uglevodorodlar kabi kattaroq atomlar) bo'lganidan so'ng, u odatda demonratarın, qayta ishlangan va qayta tiklanadi, diskonsiz po'latdan yasalgan vakuum kamerasida uglevodorod ifloslantiruvchi vositalarini samarali olib tashlash mumkin. Tozalash mexanizmi: Oksidizatsiya qiluvchi gazni (02, NO {{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{{}}} tizimini (NH3 NH3) ni tozalash uchun metall sirtning ifloslanishiga va metall sirtining noroziligiga bog'liq. Erta sirt yuzasi reaktiv gazning bosimini va haroratini sozlash orqali boshqariladi. Turli xil substratlar uchun turli xil substratlar uchun eksperimental ravishda aniqlanadi va ushbu parametrlar boshqacha.
